SKIN1004 Madagascar Centella pórusszabályzó maszk Centella Asiatica kivonattal
A SKIN1004 Poremizing Clarifying Mask egy 23 ml-es esszenciás lapmaszk 1000 ppm centella kivonattal, szalicilsav-származékokkal (BHA, LHA), PHA-val és borostyánkősavval, amely tisztítja a pórusokat, finomítja a bőrfelszínt és nyugtat a zsíros, pattanásra hajlamos bőrön.
Mire való?
A mindennapi tisztítás mellett a pórusok körül idővel felhalmozódik a faggyú és az elhalt hám, ilyenkor jön jól egy heti, célzott lapmaszk. Ez a maszk egy 10-20 perces hámlasztó-tisztító kezelést ad, amelyet a gyártó szerint himalájai rózsaszín só ásványi sói, borostyánkősav és a többféle sav kombinációja valósít meg. Az esszenciás, ragacsmentes folyadék és a bioszétbomló, növényi alapú szövet a bőrre simul, a centella és az adenozin pedig megnyugtatja. A rutinban a tisztítás és a tonik után, a szérum előtt következik.
Mit várhatsz tőle?
- Tisztább pórusok és simább felszín egy kezelés után is
- Frissebb, kevésbé fakó megjelenés a hámlasztó hatású savaknak köszönhetően
- Kevésbé fénylő, kiegyensúlyozottabb T-zóna a maszk után
- Nyugodtabb, kevésbé pirosas bőr a centella és az édesgyökér-származék miatt
- Jobban beszívódó szérum és krém a megtisztított felszínen
Miért fogod szeretni?
- Többféle sav egyben: betain-szalicilát (BHA), kaprilil-szalicilsav (LHA), glükonolakton (PHA), citromsav és borostyánkősav, vagyis a gyártó '4-HA komplexe'.
- 1000 ppm centella: az INCI-ben is jelölt koncentráció, így a nyugtató alap mennyiségileg is megjelenik.
- Probiotikus ferment: Lactobacillus/Hibiscus Sabdariffa ferment-szűrlet a bőr komfortjáért.
- Adenozin és hidrolizált kollagén: a pórusok rugalmasságának ápolásához.
- Hűsítő menta: a Mentha Arvensis levélolaj frissítő érzetet ad a maszkon.
- Egyadagos lap: egy 23 ml-es csomag egy kezelés, ezért kényelmesen kipróbálható.
Kiemelt összetevők és hatásuk
- Centella asiatica kivonat (1000 ppm) (Centella Asiatica Extract(1,000 ppm)): A márka nyugtató kulcsnövénye, a maszkban 1000 ppm koncentrációval jelölve. A hámlasztó savak mellett a bőr megnyugvását szolgálja.
- Betain-szalicilát (Betaine Salicylate): Szalicilsav-származék (BHA), amely zsíroldékony, így a pórusokban lévő faggyú és az elhalt hám oldását célozza.
- Kaprilil-szalicilsav (Capryloyl Salicylic Acid): A szalicilsav lipofil származéka (LHA), amely a gyengéd, felszíni hámlasztást adja, főleg zsíros, pattanásos bőrön.
- Glükonolakton (Gluconolactone): Polihidroxisav (PHA), amely nagy molekulaméretű és nedvességkötő, ezért lágyabban hámlaszt, mint a klasszikus AHA-k.
- Borostyánkősav (Succinic Acid): A gyártó közlése szerint a pórusok tisztítását és a faggyú egyensúlyát segíti; a savas rendszer része.
- Adenozin (Adenosine): Kozmetikai hatóanyag a bőr feszességének és a mimikai ráncok megjelenésének ápolásához.
- Hidrolizált kollagén (Hydrolyzed Collagen): Kis molekulájú fehérjetöredék, amely nedvességet köt, és a bőr rugalmasságának megjelenését támogatja.
- Nátrium-hialuronát (Sodium Hyaluronate): A hialuronsav sója vizet köt a bőr felszínén, ellensúlyozza a savak hámlasztó hatása miatti szárazságérzetet.
Összetevők (INCI)
Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Butylene Glycol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Caprylyl Glycol, Arginine, Centella Asiatica Extract(1,000 ppm), 1,2- Hexanediol, Adenosine, Pentylene Glycol, Xanthan Gum, Propanediol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Succinic Acid, Lactobacillus/Hibiscus Sabdariffa Flower Ferment Filtrate, Citric Acid, Tromethamine, Betaine Salicylate, Glycolipids, Gluconolactone, Mentha Arvensis Leaf Oil, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Collagen, Mineral Salts, Capryloyl Salicylic Acid
Hogyan működik?
A maszk esszenciás, vizes folyadékban ázott lap: a hordozó víz, dipropilénglikol és glicerin, amelyet xantán és Carbomer sűrít. A tisztító rendszer savak együttese: a Betaine Salicylate (BHA), a Capryloyl Salicylic Acid (LHA), a Gluconolactone (PHA), a Citric Acid, a Succinic Acid és az Arginine/Tromethamine pufferelés együtt szabályozza a savas hatást. A négy hialuronsavformából álló 4-HA komplex a hidratálás több összetevőjét kapcsolja össze. Mellé került a Centella Asiatica Extract (1000 ppm), az Adenosine, a Panthenol, az Allantoin, a Sodium Hyaluronate és a Dipotassium Glycyrrhizate a nyugtatásért, a Lactobacillus/Hibiscus ferment pedig a bőr komfortérzetéért. A mentaolaj hűsítő érzetet ad.
Állag és bőrérzet
Vékony, esszenciás lap, amely hűvösen, nedvesen simul a bőrre, és nem csöpög. Lehúzás után a maradék folyadék nem ragad, könnyen beszívódik.
Használat lépésről lépésre
- Tisztítsd meg az arcod (olajos tisztító, majd hab), és vigyél fel tonikot.
- Bontsd ki a lapot, és simítsd az arcodra, illesztve a szem, orr és száj nyílásait.
- Hagyd 10-20 percig a bőrön.
- Vedd le a lapot, és a maradék esszenciát paskold be az arcodra, nyakadra.
- Utána jöhet a szérum (pl. Poremizing Fresh Ampoule) és a gélkrém.
- Használd heti 1-2 alkalommal, tisztítás után.
Tipp: A lehúzott lapot ne dobd ki azonnal: a nyakadra, a dekoltázsodra is rásimíthatod, hogy a maradék esszencia ne vesszen kárba. Reggeli használat után fényvédőt vigyél fel.
Kinek ajánljuk?
Zsíros és kombinált bőrre, tág pórusokra, mitesszerre, pattanásos hajlamra és fakó, egyenetlen felszínre. A centella és az irritációs teszten átesett formula (gyártói közlés) miatt érzékenyebb bőrnek is javasolja a gyártó.
- Zsíros, kombinált bőr → BHA/LHA a pórusokba, ásványi sók a tisztításhoz
- Tág pórusok, mitesszerek → heti kezelésként tisztítja a pórusokat
- Fakó, egyenetlen felszín → PHA és savas kombináció finomítja
- Pattanásra hajlamos, érzékeny bőr → 1000 ppm centella, panthenol, allantoin nyugtat
Hol a helye a rutinban?
Heti 1-2 alkalommal, a tisztítás és a tonik után, a szérum előtt használd, lehetőleg este. Extra kezelés a Poremizing hab, ampulla és gélkrém mellé.
Jó páros:
- SKIN1004 Madagascar Centella pórusszabályzó arctisztító hab Centella Asiatica kivonattal: A papainos, kaolinos hab alapos tisztítással előkészíti a bőrt a maszkra.
- SKIN1004 Madagascar Centella pórusszabályzó ampulla szérum Centella Asiatica kivonattal 30 ml: A maszk után a pórusszabályzó ampulla vízpótló és nyugtató szérumként zárja le a kezelést.
- SKIN1004 Madagascar Centella pórusszabályzó gélkrém Centella Asiatica kivonattal: A gélkrém könnyű hidratálással pecsételi le a maszk hatását.
Melyiket válaszd?
Ha pórusokat és faggyút szeretnél kezelni, ez a maszk való hozzád, a Poremizing vonalban. Ha inkább nyugtatásra és vízpótlásra vágysz, a Watergel hidratáló és nyugtató maszk, vagy a Tea-Trica bőrnyugtató maszk lágyabb alternatíva. A Tone Brightening Glow maszk a fakó tónusra való.
A sorozatról
A Madagascar Centella Poremizing vonal a SKIN1004 pórusszabályzó sorozata zsíros és kombinált bőrre: hab, ampulla, gélkrém és maszk. A közös elemük a madagaszkári centella és a gyártó szerint a himalájai rózsaszín só ásványi sói; a maszk a heti, intenzív kezelés.
Gyakori kérdések
Hány percig hagyjam fent?
A forgalmazói leírás szerint 10-20 percig, utána vedd le a lapot, és paskold be a maradék esszenciát.
Milyen gyakran használható?
Heti 1-2 alkalommal, tisztítás és tonik után. Hetente néhány alkalom elég a pórusápoláshoz.
Mi az a 4-HA komplex?
A gyártó elnevezése az AHA, BHA, PHA és LHA típusú savak kombinációjára. Az INCI-ben a betain-szalicilát, a kaprilil-szalicilsav, a glükonolakton és a citromsav található.
Növényi kollagén van benne?
A forgalmazói leírás növényi kollagént említ, az INCI-ben viszont Hydrolyzed Collagen szerepel, amelynek eredetét a lista nem jelöli.
Érzékeny bőrre is jó?
A gyártó közlése szerint a termék irritációs teszten esett át, és minden bőrtípusra, így érzékenyre is javasolt. A centella és a panthenol nyugtató hátteret ad.
Milyen anyagú a lap?
A forgalmazó szerint bioszétbomló, vegán, növényi alapú mikroszálas lap. Kiszerelés: egyedi 23 ml-es csomag.
Termékadatok egy helyen
- Márka: SKIN1004
- Kiszerelés: 23 ml
- Eredeti név: SKIN1004 Madagascar Centella Poremizing Clarifying Mask
- Vonalkód: 8809913833130
- Származási hely: Dél-Korea
- Bőrtípus: Zsíros vagy kombinált bőr, Érzékeny bőr, Pattanásra hajlamos bőr
- Rutinhely: Arcmaszk
